一种烟气处理装置、半导体制造设备以及烟气处理方法

摘要

本发明公开一种烟气处理装置、半导体制造设备以及烟气处理方法。涉及半导体技术领域，以解决在对工艺腔室进行清洁或者维修时，工艺腔室内的烟气容易发生泄露，对人体产生伤害，以及对外界环境产生影响的技术问题。该烟气处理装置用于排放工艺腔室内的烟气。烟气处理装置包括：清洁气体通入管路、烟气排出管路以及与烟气排出管路连通的烟气处理室。清洁气体通入管路和烟气排出管路均用于与工艺腔室连通。清洁气体通入管路用于向工艺腔室通入清洁气体。烟气排出管路用于将工艺腔室在清洁气体的作用下排出的烟气排放至烟气处理室。