一种基于CCD对位系统的曝光机

摘要

本发明涉及曝光机领域，具体涉及一种基于CCD对位系统的曝光机，包括调节装置与执行装置，所述调节装置位于执行装置内部，所述调节装置包括基板：还包括：位于基板上部的调整组件，所述调整组件包括第一框架，所述第一框架两侧上表面均设有两组电磁铁装置，所述第一框架底部两端均固定安装有两组电动伸缩杆，位于同一侧的两组所述电动伸缩杆输出端均固定安装有同一个弧形导块，本发明通过采用两组矩阵式激光放射设备对同一块PCB电路板上两面进行同步扫描、且采用CCD对位系统对PCB板进行统一定位调整，以解决曝光产品差、曝光效率低、需要重复曝光的问题。