公开/公告号CN113917529A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-11
原文格式PDF
申请/专利号CN202010646937.1
申请日2020-07-07
分类号G01V1/30(20060101);
代理机构11372 北京聿宏知识产权代理有限公司;
代理人吴大建;胡晓男
地址 100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号
入库时间 2023-06-19 13:52:41
机译: 基于柯西分布的叠后波阻抗反演方法
机译: 基板保持装置,基板处理装置,基板保持方法,反演方法,形成膜的方法,以及电子设备的制造方法
机译: 基板保持装置,基板处理装置,基板保持方法,反演方法,薄膜沉积方法和电子设备制造方法