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铋/铋氧硒金属半导体异质结的制备方法及其应用

摘要

本发明公开了一种铋/铋氧硒金属半导体异质结的制备方法及其应用,所述方法利用一步水热法制备Bi/Bi2O2Se金属半导体异质结,进一步使用该异质结制备自供能光电探测器。本发明通过一步水热法制备出Bi/Bi2O2Se金属半导体异质结,操作简单,反应可控;该异质结中Bi的含量可通过PVP的含量来调控;Bi/Bi2O2Se金属半导体异质结自供能探测器制备简单、响应快速,其中Bi的存在加速光生电子空穴对的分离和转移,使得Bi/Bi2O2Se金属半导体异质结的光电探测性能优于单一Bi2O2Se材料。

著录项

  • 公开/公告号CN113804736A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN202111081385.5

  • 发明设计人 王金忠;张翔宇;高世勇;

    申请日2021-09-15

  • 分类号G01N27/30(20060101);

  • 代理机构23206 哈尔滨龙科专利代理有限公司;

  • 代理人李智慧

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2023-06-19 13:45:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-08-29

    授权

    发明专利权授予

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