镀膜过程的工艺参数优化方法、装置及镀膜实时监控系统

摘要

本申请涉及一种镀膜过程的工艺参数优化方法、装置及镀膜实时监控系统，该方法包括：获取薄膜的目标性能参数和薄膜镀制的初始工艺参数；对目标性能参数进行光学计算得到对应的目标光谱曲线；在薄膜镀制过程中，读取光控系统实时计算的膜层的透过率曲线，根据透过率曲线计算膜层的实际光谱曲线；对初始工艺参数进行调整并实时计算实际光谱曲线与目标光谱曲线之间的差值，直至实际光谱曲线与目标光谱曲线一致；记录调整得到的镀制过程的实际工艺参数，利用实际工艺参数优化初始工艺参数并输出相应的光学导纳；该技术方案，实现了对膜层的初始参数的误差检测和校正，保证该膜层的镀膜过程可监控和可预测，实现对每个膜层的镀膜过程的稳定和精准控制。