一种基于电晕荷电的氧化镓薄膜沉积系统及薄膜沉积方法

摘要

本发明公开了一种基于电晕荷电的氧化镓薄膜沉积系统及薄膜沉积方法，将衬底放置在反应区域的衬底凹槽中，将载气和稀释气体分别从雾化罐和稀释气体通路通入到加热装置中，使其充满反应区域；将前驱体溶液加入到雾化罐中；设置加热装置的工作温度；设置雾化罐中雾化装置的雾化频率，使含前驱体溶液雾化成气溶胶前驱体；打开脉冲荷电单元，形成空间域，放电针放电，使气溶胶前驱体在空间电离区中与带电粒子发生碰撞，从而使气溶胶前驱体带电，并向沉积区域移动，沉积生长形成薄膜。本发明通过在现有Mist‑CVD设备上加装脉冲荷电单元，可以有效减少薄膜沉积过程中原料浪费现象，增加沉积效率。