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公开/公告号CN113856483A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-31
原文格式PDF
申请/专利权人 万华化学集团股份有限公司;
申请/专利号CN202111312053.3
发明设计人 唐文勇;倪凡;韩纪伟;赵伟国;孙家宽;
申请日2021-11-08
分类号B01D67/00(20060101);B01D71/56(20060101);C02F1/44(20060101);C02F103/08(20060101);
代理机构
代理人
地址 264006 山东省烟台市经济技术开发区重庆大街59号
入库时间 2023-06-19 13:30:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-05-30
授权
发明专利权授予
机译: 具有高硼排斥性的复合聚酰胺反渗透膜及其制造方法
机译: 制备由此制造的高硼排斥的反渗透膜和聚酰胺复合膜的制造方法
机译:开发用于去除高硼的超低压型聚酰胺反渗透膜元件(ES20B)
机译:研究操作参数对反渗透膜脱硼的影响
机译:改进脱硼率的海水淡化反渗透膜的研制
机译:一种新的蛋白质支架,工程脱纸2,用于产生具有高亲和力和对靶蛋白酶的特异性的抑制剂
机译:聚酰胺反渗透膜的改进,可去除小的中性亲水性溶质
机译:一种基于选择性激光烧结的新型高性能碳纤维/聚酰胺12 /环氧三元复合材料的制备方法
机译:一种新型制备方法对高孔耐热刚性聚合物网络膜的制备方法及其性能评价
机译:VH模式:硼化DIII-D托卡马克中一种新的非常高的限制区域。