一种形状记忆合金中空微点阵材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种形状记忆合金中空微点阵材料及其制备方法，配方包括：等原子比的NiTi合金，组分的重量百分比是：100％的NiTi合金；制备方法，包括步骤一，聚合物掩模加工；步骤二，NiTi合金膜层溅射成型；步骤三，中空微点阵材料获取；步骤四，具有记忆效应的NiTi合金中空微点阵材料获取；该发明所制备的中空微点阵材料的结构可设计性强；得到形状记忆合金膜中空微点阵材料的方法简便、易行，可通过控制溅射时间控制膜层厚度，可实现了管壁厚度在50nm～20μm之间的调控；本发明所制备的微点阵材料具有轻质、超弹性、突出的记忆效应、高阻尼、能量吸收和生物相容性；相对于其他沉积方法，通过磁控溅射技术的使用，材料选择广泛和膜层均匀性较好。