公开/公告号CN113702302A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-26
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉东泓华芯科技有限公司;
申请/专利号CN202110999024.2
申请日2021-08-28
分类号G01N21/27(20060101);G01N21/31(20060101);
代理机构11825 北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人周庆佳
地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号武汉未来科技城龙山创新园一期B4栋18楼374室(自贸区武汉片区)
入库时间 2023-06-19 13:24:42
机译: 利用高功率,多模式半导体激光和腔衰荡光谱技术进行超灵敏的实时痕量气体检测
机译: 使用高功率,多模式半导体激光和腔衰荡光谱技术进行超灵敏的实时痕量气体检测
机译: 利用腔衰荡光谱法进行痕量气体分析的装置和方法