法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-06-02
著录事项变更 IPC(主分类):H01L21/3205 专利申请号:2019800956497 变更事项:申请人 变更前:昭和电工材料株式会社 变更后:株式会社力森诺科 变更事项:地址 变更前:日本东京 变更后:日本东京
著录事项变更
机译: 贯穿孔电极基板,使用贯穿孔电极基板的半导体装置以及贯穿孔电极基板的制造方法
机译: 贯穿电极基板,带有贯穿电极基板的安装板以及贯穿电极基板的制造方法
机译: 硅贯穿电极基体和硅贯穿电极基体的制造方法