公开/公告号CN113666746A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-19
原文格式PDF
申请/专利权人 西安交通大学;
申请/专利号CN202110914615.5
申请日2021-08-10
分类号C04B35/50(20060101);C04B35/48(20060101);C04B41/85(20060101);H01M10/0525(20100101);H01M10/0562(20100101);H01M10/42(20060101);
代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;
代理人高博
地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号
入库时间 2023-06-19 13:20:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C04B35/50 专利申请号:2021109146155 申请公布日:20211119
发明专利申请公布后的驳回
机译: 用于极端紫外光刻的光学表面污染物去除方法,涉及从光学表面去除污染物以形成聚合保护层,该保护层可保护光学表面免受金属化合物的污染
机译: 污染物去除胶带组件,污染物去除胶带卷以及从表面去除污染物的方法
机译: 污染物去除带组件,污染物去除带卷以及从表面去除污染物的方法