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一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法

摘要

本发明公开了一种基于空间分布拟合的γ光子多次散射校正方法,该方法通过把γ光子多次散射看作γ光子多个单次散射的叠加,将γ光子采样数据按LoR在Root中的保存方式进行投影,分别对离散的γ光子单次散射分布和多次散射分布进行函数拟合,确定核函数的表达形式,计算探测系统中每个探测器对记录的γ光子多次散射数目,最后,将多次散射的γ光子从原始γ光子数据中剔除。本方法有效解决了由于散射的γ光子造成重建图像出现的星状辐射伪影、边缘模糊等图像失真情况,从而达到了γ光子多次散射校正的目的,并且提高了γ光子多次散射识别准确性。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-10

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01N23/20066 专利申请号:2021109576666 申请公布日:20211119

    发明专利申请公布后的视为撤回

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