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一种微波轴向断层脑成像的穿戴设备

摘要

本发明提供了一种微波轴向断层脑成像的穿戴设备,其包括底板,底板上设置有移动机构和第一滑动机构,第一滑动机构通过旋转装置设置有第二滑动机构,第二滑动机构设置有天线组件;第一滑动机构包括垂向设置在底板上的第一滑杆、滑动设置在第一滑杆上的第一滑块以及用于定位第一滑块与第一滑杆位置的第一定位机构;第二滑动机构包括第二滑杆、滑动设置在第二滑杆上的第二滑块以及用于定位第二滑块与第二滑杆位置的第二定位机构,第一滑块与第二滑块通过旋转装置连接;天线组件包括滑动设置在第二滑杆上的天线座、安装在天线座上且用于夹持头部的夹持组件和设置在夹持组件上且用于安装天线的天线卡座。

著录项

  • 公开/公告号CN113647929A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202110940837.4

  • 申请日2021-08-17

  • 分类号A61B5/0507(20210101);H01Q3/02(20060101);

  • 代理机构11870 北京正华智诚专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李林合

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 13:18:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-31

    授权

    发明专利权授予

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