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一种新型双台面碳化硅SACM单光子探测器及其制备方法

摘要

本发明公开了一种新型双台面碳化硅SACM单光子探测器及其制备方法,该单光子探测器制备于n型SiC衬底上,采用n+/n‑/n/n‑/p结构或p+/p‑/p/p‑/n结构;所述单光子探测器从顶部至雪崩层的上表面刻蚀有小角度倾斜台面,小角度倾斜台面的底角小于10°,且小角度倾斜台面采用半台面结构;所述小角度倾斜台面的下台面至底部接触层刻蚀有垂直台面,形成深槽隔离;所述垂直台面的直径大于小角度倾斜台面下台面的直径。本发明能够提高器件填充因子和芯片利用率,优化SiC SACMAPD的有效光敏区域;通过垂直台面刻蚀实现相邻器件之间的电学隔离和光学隔离。

著录项

  • 公开/公告号CN113594275A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京信息工程大学滨江学院;

    申请/专利号CN202110794990.0

  • 申请日2021-07-14

  • 分类号H01L31/0312(20060101);H01L31/0352(20060101);H01L31/107(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人沈丹

  • 地址 214105 江苏省无锡市锡山区锡山大道333号

  • 入库时间 2023-06-19 13:05:40

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