法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-04-21
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/35 专利申请号:2021108436894 申请公布日:20211029
发明专利申请公布后的驳回
机译: 包含氧化锆和/或氧氮化锆硅的低辐射涂层的涂层制品及其制备方法
机译: 包含氧化锆和/或氧氮化锆硅的低辐射涂层的涂层制品及其制备方法
机译: 将锆和/或钛的涂层以及一种稀有金属涂覆到金属基底上并将锆和/或钛转化成氧化物,氮化物,碳化物,硼化物或硅化物的方法