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一种定制喷涂区域的喷涂设备及膜电极喷涂系统

摘要

本发明公开了一种定制喷涂区域的喷涂设备及膜电极喷涂系统,其中一种定制喷涂区域的喷涂设备包括:基座;喷涂结构,设置在所述基座上;喷气结构,设置在所述基座上,所述喷气结构的喷气范围与所述喷涂结构的喷涂范围部分重叠以限制所述喷涂结构的喷涂范围。通过基座上设置有喷气结构,在喷涂结构进行喷涂时,喷气结构的喷气范围与所述喷涂结构的喷涂范围部分重叠,喷气结构喷出气体形成空气墙,空气墙能够阻拦喷涂结构喷出的原料,使得喷出的原料限制在空气墙的一侧,实现限制喷涂结构的喷涂范围的效果,有利于在喷涂时减少原料喷洒在有效附着区域外,提高催化剂原料的利用率和喷涂效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113522562A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东喜玛拉雅氢能科技有限公司;

    申请/专利号CN202110834060.3

  • 发明设计人 杜超;陈志刚;

    申请日2021-07-23

  • 分类号B05B9/04(20060101);B05B12/18(20180101);H01M4/04(20060101);

  • 代理机构44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司;

  • 代理人肖军

  • 地址 528400 广东省中山市火炬开发区生物谷大道7号

  • 入库时间 2023-06-19 12:59:17

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