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一种用于负极补锂的锂膜及其制备装置、制备方法和应用

摘要

本发明涉及锂电池领域,公开了一种用于负极补锂的锂膜及其制备装置、制备方法和应用。本发明所述锂膜包括基膜和锂层,所述锂层厚度为1‑10μm;所述基膜厚度6‑20μm,通过本发明提到的制备锂膜的装置及方法制备,同时还提出了一种在负极应用本发明所述锂膜的锂电池。本发明的锂膜具有厚度均匀,易于生产,基膜循环利用的特点;锂膜制备过程中可以通过对电压、注射泵的推进速率、溶剂的选择、喷头喷射液剂的时间等控制锂层的均匀性与厚度,调控锂层表面形貌;同时本发明提到的制备方法还能解决现有锂膜均匀性差,精度难以控制且局部富余锂残留带来后续负极卷制过程中的安全隐患问题等。

著录项

  • 公开/公告号CN113540406A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万向一二三股份公司;

    申请/专利号CN202110719622.X

  • 申请日2021-06-28

  • 分类号H01M4/139(20100101);H01M10/052(20100101);C23C4/123(20160101);C23C4/08(20160101);

  • 代理机构33109 杭州杭诚专利事务所有限公司;

  • 代理人何俊

  • 地址 311215 浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区建设二路855号

  • 入库时间 2023-06-19 12:56:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-07-04

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01M 4/139 专利申请号:202110719622X 申请公布日:20211022

    发明专利申请公布后的驳回

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