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一种基于卷积神经网络和注意力机制的光场深度预测方法

摘要

本发明涉及一种基于卷积神经网络和注意力机制的光场深度预测方法,包括:获取光场图像并对其进行预处理,生成光场图像集;构建光场深度预测模型,该模型包括EPI学习模块、注意力模块和特征融合模块;将光场图像集分别输入EPI学习模块和注意力模块,分别获取光场图像的EPI信息以及各个图像权重;分别将光场图像EPI信息以及各个图像的权重输入特征融合模块,获得光场深度预测结果。与现有技术相比,本发明具有预测精度高、实用性好等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN113506336A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海师范大学;

    申请/专利号CN202110732927.4

  • 申请日2021-06-30

  • 分类号G06T7/557(20170101);G06K9/46(20060101);G06K9/62(20060101);G06N3/04(20060101);G06N3/08(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵志远

  • 地址 200234 上海市徐汇区桂林路100号

  • 入库时间 2023-06-19 12:53:05

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