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一种以卤化铅为铅源制备致密PbS量子点薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种以卤化铅为铅源制备致密PbS量子点薄膜的方法,包括以下步骤:第一步,制备前驱液:在10mL二甲基酰胺中加入0.05mmol卤化铅,加热溶液并保持温度在60‑80℃条件下,以1000‑1500r/min的转速进行充分搅拌,搅拌50‑60min至溶液澄清透明,即制备得到前驱液,待前驱液冷却至22‑25℃,然后用0.20‑0.25μm的微孔滤膜过滤后备用;第二步,配制Na2S溶液:先将0.1‑0.14gNa2S·9H2O溶于5mL去离子水中,然后再加入95mL的甲醇,便获得100mLNa2S·9H2O溶液。本发明制备的PbS量子点薄膜尺寸均一、分布均匀,结构致密,能够改进传统PbS量子点的缺陷,增进电荷传输,减小电荷复合,提高器件光电转换效率,且具有导电率高,光电转换效率高的优点,同时本发明制备工艺简单、成本低廉,具有良好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN113443648A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北方民族大学;

    申请/专利号CN202110671314.4

  • 申请日2021-06-17

  • 分类号C01G21/21(20060101);C09K11/66(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11834 北京欣鼎专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人卢萍

  • 地址 750000 宁夏回族自治区银川市西夏区文昌北街204号

  • 入库时间 2023-06-19 12:45:17

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