公开/公告号CN113448434A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-28
原文格式PDF
申请/专利权人 豪夫迈·罗氏有限公司;
申请/专利号CN202110318891.5
申请日2021-03-25
分类号G06F3/01(20060101);G06F16/21(20190101);G06K17/00(20060101);G06T19/00(20110101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人申屠伟进;吕传奇
地址 瑞士巴塞尔
入库时间 2023-06-19 12:43:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-03
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 3/01 专利申请号:2021103188915 申请日:20210325
实质审查的生效
机译: 用于制造半导体装置的曝光系统的电容计跟踪装置,使用该电容计跟踪装置的半导体装置的表面跟踪方法,包括该跟踪装置的整平装置以及整平方法
机译: 集中式光伏发电系统,检测跟踪偏差的方法和校正跟踪偏差的方法,用于检测跟踪偏差的控制装置和程序以及用于校正跟踪偏差的程序
机译: 用于检测跟踪误差的光电检测器,用于检测跟踪误差的装置和方法,用于检测聚焦误差的装置和方法以及用于磁光记录/再现的光学头