公开/公告号CN113403580A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-17
原文格式PDF
申请/专利权人 中国航发北京航空材料研究院;
申请/专利号CN202110531280.9
申请日2021-05-14
分类号C23C14/08(20060101);C23C14/14(20060101);C23C14/30(20060101);C23C14/32(20060101);C23C14/02(20060101);
代理机构11008 中国航空专利中心;
代理人张淑华
地址 100095 北京市海淀区北京市81号信箱
入库时间 2023-06-19 12:37:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-04-11
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/08 专利申请号:2021105312809 申请公布日:20210917
发明专利申请公布后的驳回
机译: 包含氧化锆和/或氧氮化锆硅的低辐射涂层的涂层制品及其制备方法
机译: 包含氧化锆和/或氧氮化锆硅的低辐射涂层的涂层制品及其制备方法
机译: 热障涂层应用的微波合成等离子喷涂氧化镓稳定/掺杂氧化锆粉的制备方法