铁电解系统电解液除三价铁离子设备

摘要

本发明提供一种铁电解系统电解液除三价铁离子设备，包括电解槽和供液管，供液管连通电解槽，还包括去除三价铁离子循环装置，去除三价铁离子循环装置包括溢流管、布氏漏斗、电解液循环槽和蠕动泵，电解槽连通溢流管，溢流管的端部连通布氏漏斗的顶部，布氏漏斗内设有过滤层，过滤层上设有的铁粉填料层，布氏漏斗的底部连通电解液循环槽的顶部。该设备，通过在电解液循环过程中增加一过滤环节，能够实现降低电解液中Fe3+的含量，并能够进一步提高Fe2+的含量，能够提高电流效率，降低电耗，保障阴极铁质量，并能够物理拦截电解液中固体分散物、悬浮物等，从而起到电解液净化作用。同时原料对人体无不良影响，能够保证生产安全、环保。

说明书

技术领域

本发明涉及一种铁电解系统电解液除三价铁离子设备。

背景技术

铁电解生产高纯电解铁时，电解质采用亚铁盐溶液，通电后，单质铁在阳极，失去电子生成亚铁离子Fe

为提高生产效率与质量，需要去除电液质中Fe

上述问题是在电解液除Fe

发明内容

本发明的目的是提供一种铁电解系统电解液除三价铁离子设备解决现有技术中存在的如何降低电解液中Fe

本发明的技术解决方案是：

一种铁电解系统电解液除三价铁离子设备，包括电解槽和供液管，供液管连通电解槽，还包括去除三价铁离子循环装置，去除三价铁离子循环装置包括溢流管、布氏漏斗、电解液循环槽和蠕动泵，电解槽连通溢流管，溢流管的端部连通布氏漏斗的顶部，布氏漏斗内设有过滤层，过滤层上设有铁粉填料层，布氏漏斗的底部连通电解液循环槽的顶部，电解液循环槽通过蠕动泵连通供液管。

进一步地，过滤层采用150-200目滤网。

进一步地，铁粉填料层采用厚度15-30cm的铁粉填料层。

进一步地，布氏漏斗及过滤层采用耐腐蚀材质制成。

进一步地，供液管伸入电解槽一侧底端，溢流管连通电解槽另一侧的侧壁顶端。

进一步地，电解槽内设有铁电解生产高纯电解铁装置或含贵金属铁合金电解生产贵金属装置。

进一步地，该种铁电解系统电解液除三价铁离子设备的使用过程为，电解槽中电解液通过溢流管流入布氏漏斗，经由布氏漏斗的过滤层上的铁粉填料层，电解液中Fe

本发明的有益效果是：该种铁电解系统电解液除三价铁离子设备，通过在电解液循环过程中增加一过滤环节，通过在布氏漏斗中以铁粉填料层作填料层，使电解液以渗滤的方式通过，使得Fe

附图说明

图1是本发明实施例铁电解系统电解液除三价铁离子设备的结构示意图；

其中：1-电解槽，2-供液管，3-溢流管，4-布氏漏斗，5-电解液循环槽，6-蠕动泵，7-过滤层，8-铁粉填料层。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的优选实施例。

实施例

一种铁电解系统电解液除三价铁离子设备，如图1，包括电解槽1和供液管2，供液管2连通电解槽1，还包括去除三价铁离子循环装置，去除三价铁离子循环装置包括溢流管3、布氏漏斗4、电解液循环槽5和蠕动泵6，电解槽1连通溢流管3，溢流管3的端部连通布氏漏斗4的顶部，布氏漏斗4内设有过滤层7，过滤层7上设有铁粉填料层8，布氏漏斗4的底部连通电解液循环槽5的顶部，电解液循环槽5通过蠕动泵6连通供液管2。

该种铁电解系统电解液除三价铁离子设备，通过在电解液循环过程中增加一过滤环节，通过在布氏漏斗4中以铁粉填料层8作填料层，使电解液以渗滤的方式通过，使得Fe

该种铁电解系统电解液除三价铁离子设备，能够循环进行反应，不影响铁电解系统的正常进行。去除三价铁离子效率高，并通过采用铁粉填料层8参与去除反应，能够进一步提高电解液中Fe

该种铁电解系统电解液除三价铁离子设备的使用过程为，如图1中箭头方向，电解槽1中电解液通过溢流管3流入布氏漏斗4，经由布氏漏斗4的过滤层7上的铁粉填料层8，电解液中Fe

实施例中，过滤层7采用150-200目滤网。铁粉填料层8采用厚度15-30cm的铁粉填料层。铁粉填料层8就是用铁粉作为过滤，电解液从中穿过，三价铁与单质铁完全反应变成二价铁需要时间，故铁粉填料层8需要一定厚度。铁粉下面的过滤层7则是常规的过滤作用，主要是防止较大颗粒物如铁粉直接进入电解液。严格说铁粉填料层8的厚度与容器大小，并与单位时间需要处理的液体量密切相关。

实施例中，布氏漏斗4及过滤层7采用耐腐蚀材质制成，保证耐用性。供液管2伸入电解槽1一侧底端，溢流管3连通电解槽1另一侧的侧壁顶端。通过电解槽1采用下进上出的方式，使得电解槽1内的电解液均匀。通过设置溢流管3，在电解槽1内达到一定高度的电解质通过溢流管3流向布氏漏斗4，保证电解槽1内充足的电解质进行生产。电解槽1内设有铁电解生产高纯电解铁装置或含贵金属铁合金电解生产贵金属装置。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。