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基于单一N掺杂调控4H-SiC纳米结构同时收集机械能和光能用于裂解水的方法

摘要

本发明提供了一种基于单一N掺杂调控4H‑SiC纳米结构同时收集机械能和光能用于裂解水的方法,其步骤包括:以N2O5为氮源,在4H‑SiC单晶片上扩散掺杂制得N掺杂浓度为1‑10mol%的N掺杂的4H‑SiC;通过化学刻蚀在N掺杂的4H‑SiC上形成纳米孔阵列制得具有纳米结构的N掺杂4H‑SiC;以具有纳米结构的N掺杂4H‑SiC作光电阳极,铂片作阴极,同时对光电阳极进行光照与施力,利用压电效应和光电催化效应耦合增强原理同时收集机械能和光能裂解水。本发明提供的一种基于单一N掺杂调控4H‑SiC纳米结构同时收集机械能和光能用于裂解水的方法,操作过程简单、设备要求低且分解水能力强。

著录项

  • 公开/公告号CN113308743A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN202110473455.5

  • 申请日2021-04-29

  • 分类号C30B31/08(20060101);C30B33/08(20060101);C30B29/36(20060101);C01B3/04(20060101);

  • 代理机构11448 北京中强智尚知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄耀威

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2023-06-19 12:22:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-09-16

    授权

    发明专利权授予

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