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含有机硅/改性氮化硼粉体低粘度光固化型超支化涂料、其制备方法及应用

摘要

本发明属于涂料领域,具体涉及一种含有机硅/改性氮化硼粉体低粘度光固化型超支化涂料、其制备方法及应用,包括组分A和组分B,其中,组分A按照重量份数计包括:50‑100份光固化型超支化涂料,0‑50份有机硅改性光固化型超支化涂料,1‑5份改性氮化硼粉体,5‑15份稀释剂;组分B为光引发剂;所述改性氮化硼粉体为将氮化硼进行初步羟基化后,再经原位聚合将多异氰酸酯和含羟基丙烯酸酯单体封端制备而成。本发明的含有机硅/改性氮化硼粉体低粘度光固化型超支化涂料,涂层致密性良好,防腐性能优异,涂膜实干速度仅需3~5s,硬度、柔韧性、耐冲击高,是一款性能优异的光固化型超支化涂料。

著录项

  • 公开/公告号CN113185911A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN202110478821.6

  • 发明设计人 魏铭;李博申;胡瑶瑶;董群峰;

    申请日2021-04-30

  • 分类号C09D175/16(20060101);C09D7/62(20180101);C09D5/08(20060101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人石超群

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号

  • 入库时间 2023-06-19 12:04:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-05

    授权

    发明专利权授予

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