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光压测量装置及光压测量方法

摘要

本发明涉及一光压测量装置,其包括一扭秤、一激光器、一凸透镜以及一线阵列探测器,其中,所述扭秤包括一根悬空的碳纳米管和一悬挂固定于所述碳纳米管上的反射镜,所述反射镜包括一薄膜和两反射层,所述薄膜包括两层或两层以上层叠设置的二维材料,所述薄膜具有相对的第一表面和第二表面,所述两反射层分别形成于所述薄膜的第一表面和第二表面;所述激光器用于发射激光;所述凸透镜位于所述激光的光路上,用于将所述激光汇聚至所述反射镜的表面,所述激光被所述反射镜反射,形成一反射光;所述线阵列探测器位于所述反射镜的反射光路上,用于接收所述反射镜的反射光。本发明还涉及一光压测量方法。

著录项

  • 公开/公告号CN113138043A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010048183.X

  • 发明设计人 丛琳;袁子;姜开利;范守善;

    申请日2020-01-16

  • 分类号G01L1/24(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室

  • 入库时间 2023-06-19 11:55:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-22

    授权

    发明专利权授予

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