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改善金属线工艺热点的OPC修正方法

摘要

本发明公开了一种改善金属线工艺热点的OPC修正方法包括:步骤一、对原始掩模板版图进行第一次双重图形拆分和OPC修正并筛选出靠近器件辅助图形附近的金属线工艺热点图形;步骤二、进行第二次双重图形拆分,对金属线工艺热点图形附近的器件辅助图形全部着色为异色,并对原始掩模板版图进行重新拆分,将金属线工艺热点图形和附近的器件辅助图形分别拆分到第一和第二层掩模板版图上;步骤三、进行第二次OPC修正得到最终掩模板版图。本发明能有效提高金属线工艺热点图形的光刻工艺窗口,减少金属线工艺热点图形产生短路或断路的风险。

著录项

  • 公开/公告号CN113126422A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN202110226492.6

  • 发明设计人 孟任阳;于世瑞;

    申请日2021-03-01

  • 分类号G03F1/36(20120101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭四华

  • 地址 201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2023-06-19 11:52:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-29

    授权

    发明专利权授予

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