公开/公告号CN113088234A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-07-09
原文格式PDF
申请/专利权人 上海理日化工新材料有限公司;
申请/专利号CN201911340101.2
发明设计人 顾庆锋;
申请日2019-12-23
分类号C09J167/02(20060101);C09J169/00(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人沙永生
地址 200011 上海市黄浦区西藏南路765号801室
入库时间 2023-06-19 11:47:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-16
实质审查的生效 IPC(主分类):C09J 167/02 专利申请号:2019113401012 申请日:20191223
实质审查的生效
机译: 公开了一种高熔点金属硅化物靶,其制备方法,高熔点金属硅化物薄膜以及半导体器件。高熔点金属硅化物靶是高熔点金属硅化物薄膜和高熔点金属硅化物薄膜。
机译: 一种由表面活性剂体系和高熔点脂肪化合物组成的个人护理组合物的制备方法。
机译: 一种由表面活性剂和高熔点脂肪化合物组成的个人护理组合物的制备方法。