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公开/公告号CN112935271A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-06-11
原文格式PDF
申请/专利权人 有研亿金新材料有限公司;
申请/专利号CN202110118432.2
发明设计人 曲鹏;丁照崇;李利利;李勇军;贾倩;曹晓萌;冯昭伟;熊晓东;庞欣;滕海涛;
申请日2021-01-28
分类号B22F9/22(20060101);B82Y40/00(20110101);B82Y30/00(20110101);
代理机构11246 北京众合诚成知识产权代理有限公司;
代理人陈波
地址 102200 北京市昌平区超前路33号
入库时间 2023-06-19 11:24:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B22F 9/22 专利申请号:2021101184322 申请公布日:20210611
发明专利申请公布后的驳回
机译: 硅团簇超晶格,硅团簇超晶格的制备方法,硅团簇的制备方法,硅团簇超晶格结构,硅团簇超晶格结构的制备方法,半导体器件和量子器件
机译: 一种检测团簇结构和微团簇的方法
机译: 使用相同的微团簇水制备方法和微团簇制备装置
机译:中性和阴离子SinSm Lambda(n = 1-9,lambda = 0,-1)团簇的结构,稳定性和电子性质:与纯硅团簇的比较
机译:Nb_(n-1)Co(n = 2-9)团簇的几何结构,稳定性和电子性质的演化:与纯铌团簇的比较
机译:探究双金属铬-金团簇Cr_mAu_n(m + n≤6)的结构和电子性能:与纯铬和金团簇的比较
机译:使用接触模式AFM的铜团簇的纳米结构形成:与团簇粘附有关
机译:铁-硫长方体型团簇和M-铁-硫(z +)古巴型团簇(M =铁,钴,镍,钼,th,铜,银)的合成,x射线结构,反应性,电化学,电子结构,锌和镉)。
机译:探索团簇离子注入的一种制备方法:从超薄碳膜到石墨烯
机译:核和微团簇壳结构形成和变形的机理(核与微团簇之间的相似性和异质性,研讨会报告)
机译:金属微团簇的电子和结构特性