一种高抗弯折性的ITO透明导电膜及其生产方法

摘要

本发明公开了一种高抗弯折性的ITO透明导电膜及其生产方法，包括基材层，所述基材层的上层面依次包括第一底涂层和掺锡氧化铟层，所述基材层的下层面依次包括第二底涂层和石墨烯层，所述基材层为PET层、透明PI层、PC层、PMMA层、玻璃层、聚酯塑料层、环氧塑料层、或者芳纶塑料层，厚度为4μm‑700μm，所述掺锡氧化铟锡层通过磁控溅射附着于第一底涂层表面。通过加入石墨烯层，利用石墨烯具有优良的导电性质，增加透明导电膜的导电性，石墨烯是已知强度最高的材料之一，同时还具有很好的韧性，且可以弯曲的性质增加ITO透明导电膜的延展性，从而防止ITO透明导电膜在加工过程中发生断裂或者出现裂缝，增加ITO透明导电膜的生产质量。