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公开/公告号CN112820752A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-18
原文格式PDF
申请/专利权人 云谷(固安)科技有限公司;清华大学;
申请/专利号CN201911121038.3
发明设计人 夏继业;曹轩;董小彪;姚志博;王岩;李晓伟;郭剑;王程功;
申请日2019-11-15
分类号H01L27/15(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构44470 广东君龙律师事务所;
代理人丁建春
地址 065500 河北省廊坊市固安县新兴产业示范区
入库时间 2023-06-19 11:02:01
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-03
授权
发明专利权授予
机译: 制造微发光二极管阵列基板的方法,微发光二极管阵列基板,微发光二极管显示装置
机译: 制造微发光二极管阵列基板的方法,微发光二极管阵列基板,微发光二极管的显示装置
机译: 转移基板,制造微发光二极管显示基板的方法,以及微发光二极管显示基板
机译:高效的倒装芯片InGaN微像素化发光二极管阵列:微显示器和色彩转换的有希望的候选者
机译:通过光电化学方法,具有绝缘的Ga_2O_3层的微平方阵列InGaN基发光二极管
机译:用Cu / In / In / Cu金属基板的AlGainP红色垂直微发光二极管电气和光学性能研究
机译:矩阵可寻址的微尺寸发光二极管阵列,使用两步蚀刻方法
机译:优化聚氨酯丙烯酸酯的高分辨率接触转移及其在微图案有机发光二极管制造中的应用
机译:在量度的发光二极管光谱下营养水平的微晶微晶体增加
机译:集成在柔性基板上的用于发光二极管和光伏应用的ZnO微晶
机译:发光二极管投影微立体光刻三维制造系统的设计与优化