一种低熔体表面张力的TFT基板玻璃及其制备方法

摘要

本发明提供一种低熔体表面张力的TFT基板玻璃及其制备方法，所述TFT基板玻璃的组分按摩尔比计，包括58‑68份的SiO2、8‑13份的B2O3、9‑15份的Al2O3、6‑10份的CaO和1‑3份的SrO；所述的B2O3通过硼酸和硼矸引入，Al2O3通过氢氧化铝和氧化铝引入，SrO通过碳酸锶和硝酸锶引入。TFT基板玻璃在制备时，按摩尔比计，将58‑68份的SiO2、8‑13份的B2O3、9‑15份的Al2O3、6‑10份的CaO和1‑3份的SrO采用全氧燃烧方式和电助熔方式共同熔化成玻璃熔体，之后将得到的玻璃熔体用溢流法进行制备，得到低熔体表面张力的TFT基板玻璃。