首页> 中国专利> 基于相位优化和稀疏约束的可认证纯相位全息图生成方法

基于相位优化和稀疏约束的可认证纯相位全息图生成方法

摘要

本发明公开了一种基于相位优化和稀疏约束的可认证纯相位全息图生成方法,包括以下步骤:S1:选取三张图像分别作为隐藏图像、参考图像和宿主图像,利用相位优化分别在稀疏约束条件下生成隐藏图像、参考图像和宿主图像对应的纯相位全息图;S2:将隐藏图像及参考图像对应的纯相位全息图分别进行二次相位优化,分别得到优化后纯相位全息图,再将隐藏图像及参考图像优化后纯相位全息图的相位信息嵌入宿主图像的纯相位全息图中且固定不变,再次对宿主图像的纯相位全息图进行二次相位优化,得到最终的可认证纯相位全息图。本发明能够有效加密隐藏图像,且可以得到良好的认证效果。

著录项

  • 公开/公告号CN112765624A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江科技学院;

    申请/专利号CN202110067814.7

  • 发明设计人 汪小刚;王雯琦;

    申请日2021-01-19

  • 分类号G06F21/60(20130101);

  • 代理机构33294 杭州万合知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人丁海华;万珠明

  • 地址 310012 浙江省杭州市西湖区留和路318号

  • 入库时间 2023-06-19 10:54:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-27

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号