一种目标RCS测量用吸波屏

摘要

本申请属于近地静态RCS测量技术领域，特别涉及一种目标RCS测量用吸波屏。其包括吸波屏基底，吸波屏基底上设置有吸波材料，吸波屏基底的底端位于反射地面上，顶端向后倾斜并被支撑，吸波屏基底正面朝向雷达来波方向，所述吸波屏基底的左侧设置有左侧面锯齿边缘，右侧设置有右侧面锯齿边缘，顶侧设置有顶面锯齿边缘，其中，左侧面锯齿边缘、右侧面锯齿边缘以及顶面锯齿边缘均包括多个三角形锯齿，锯齿尖端朝远离吸波屏基底的方向延伸。本申请可更高效地剔除吸波屏顶面边缘及两个侧面边缘绕射引入的散射干扰成分，降低或消除吸波屏绕射波对测量结果的影响，提高近地静态RCS测量被测目标RCS测量结果精度。

说明书

技术领域

本申请属于近地静态RCS测量技术领域，特别涉及一种目标RCS测量用吸波屏。

背景技术

随着低可探测技术在军事装备上的广泛应用，雷达目标的RCS值越来越小，对目标RCS测试设备及环境的要求越来越高，背景杂波电平已成为制约进一步提高近地静态RCS测试场目标RCS测量精度的重要因素。

近地测量条件下，测试系统接收机实际接收到的信号功率除待测目标回波信号外，还包括：收发天线间的耦合信号、收发支路隔离度差造成的内部信号泄漏、待测目标区背景信号及场地直接回波信号等干扰信号，其中，多路径干扰是近地静态RCS测试场背景杂波的主要来源。

设置吸波屏是近地静态RCS测试场抑制多路径干扰的常用手段，典型的应用如美国的Tejon室外测试场。吸波屏架设于RCS测量系统天线与被测目标之间地面上，其架设方向与RCS测量系统天线和被测目标视轴方向垂直，用于阻挡或散射照射到地面的多路径信号，通过优化设计吸波屏的高度、宽度、倾角及架设位置等，可使多路径干扰降低到可接受的水平。但是，金属吸波屏在抑制或阻挡多路径干扰信号的同时，必然会在被测目标区引入绕射场(表面绕射场和边缘绕射场)，绕射场的存在是被测目标RCS测量结果新的误差来源。其中，吸波屏顶面绕射场是吸波屏引入的场干扰的主要来源。

发明内容

为了解决上述问题，本申请提供了一种目标RCS测量用吸波屏，包括吸波屏基底，其上设置有吸波材料，吸波屏基底的底端位于反射地面上，顶端向后倾斜并被支撑，吸波屏基底正面朝向雷达来波方向，其中，所述吸波屏基底的左侧设置有左侧面锯齿边缘，右侧设置有右侧面锯齿边缘，顶侧设置有顶面锯齿边缘，左侧面锯齿边缘、右侧面锯齿边缘以及顶面锯齿边缘均包括多个三角形锯齿，锯齿尖端朝远离吸波屏基底的方向延伸。

优选的是，所述锯齿尖端角度为锐角。

优选的是，所述左侧面锯齿边缘及右侧面锯齿边缘与所述吸波屏基底焊接。

优选的是，所述顶面锯齿边缘通过调整机构与吸波屏基底连接，所述调整机构用于调整顶面锯齿边缘的倾斜角度。

优选的是，所述调整机构为调节螺母，所述吸波屏基底的顶面在后侧向上延伸有挡板，挡板上设置有螺纹孔，顶面锯齿边缘包括边缘主体及边齿，边缘主体底部设置搭接在吸波屏基底的顶面上，调节螺母的一端穿过挡板的螺纹孔后，顶接在边缘主体上。

优选的是，所述左侧面锯齿边缘、右侧面锯齿边缘以及顶面锯齿边缘的底侧与吸波屏基底的侧面及顶面随形设计，所述左侧面锯齿边缘、右侧面锯齿边缘以及顶面锯齿边缘与吸波屏基底之间通过导电漆连接。

本申请可更高效地剔除吸波屏边缘(顶面、两个侧面)绕射引入的散射干扰成分，降低或消除吸波屏绕射波对测量结果的影响，提高近地静态RCS测量被测目标RCS测量结果精度。

附图说明

图1是本申请目标RCS测量用吸波屏的结构示意图。

图2是图1所示实施例的侧视图。

其中，1-吸波屏基底，11-左侧面锯齿边缘，12-右侧面锯齿边缘，13-顶面锯齿边缘，14-调整机构，15-挡板，131-边缘主体，132-边齿。

具体实施方式

为使本申请实施的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请实施方式中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。所描述的实施方式是本申请一部分实施方式，而不是全部的实施方式。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，旨在用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。基于本申请中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本申请保护的范围。下面结合附图对本申请的实施方式进行详细说明。

本申请目标RCS测量用吸波屏，如图1-2所示，包括吸波屏基底1，其上设置有吸波材料，吸波屏基底1的底端位于反射地面上，顶端向后倾斜并被支撑，吸波屏基底1正面朝向雷达来波方向，所述吸波屏基底1的左侧设置有左侧面锯齿边缘11，右侧设置有右侧面锯齿边缘12，顶侧设置有顶面锯齿边缘13，其中，左侧面锯齿边缘11、右侧面锯齿边缘12以及顶面锯齿边缘13均包括多个三角形锯齿，锯齿尖端朝远离吸波屏基底1的方向延伸。

本申请左侧面锯齿边缘装配于吸波屏的左侧，用于降低或消除通过吸波屏左侧边缘绕射的场干扰。右侧面锯齿边缘装配于吸波屏的右侧，用于降低或消除通过吸波屏右侧边缘绕射的场干扰。顶面锯齿边缘装配于吸波屏的顶面，用于降低或消除通过吸波屏顶面边缘绕射的场干扰。

本申请在近地静态RCS测试场中，通过在吸波屏三个面(顶面、两个侧面)分别加装金属锯齿边缘，降低或消除由吸波屏边缘(顶面、两个侧面)绕射的场干扰。每个锯齿边缘包括：锯齿的边缘主体131、边齿132，以及锯齿边缘吸波涂层。顶面锯齿边缘13通过调整机构使锯齿边缘主体正面法线方向与来波方向成45度夹角。设计过程中，确保金属锯齿边缘共形面与吸波屏顶面、侧面之间共面；加工过程中，所述左侧面锯齿边缘11、右侧面锯齿边缘12以及顶面锯齿边缘13的底侧与吸波屏基底1的侧面及顶面做随形设计，左侧面锯齿边缘11、右侧面锯齿边缘12以及顶面锯齿边缘13与吸波屏基底1之间通过导电漆连接，导电漆涂覆在锯齿边缘的底面以及吸波屏侧面和顶面；安装过程中，在锯齿边缘的背面，将每个锯齿边缘与对应的吸波屏边缘焊接在一起，每个锯齿边缘与吸波屏间的所有缝隙均粘贴导电性能良好的铝箔，确保金属锯齿边缘共形面与吸波屏顶面、侧面之间可靠共地。所有锯齿边缘经过优化设计，将被雷达波来波照射的锯齿边缘边齿面的形状设计为三角形，齿尖的角度为锐角，使得锯齿边缘所截获的能量，从齿根到齿尖逐渐减少，以降低边缘的绕射作用，进而实现降低边缘绕射造成的场干扰，降低或消除因吸波屏引入的绕射波对测量结果的影响。在优化设计锯齿边缘的同时，在锯齿边缘表面涂敷吸波涂层，以进一步降低到达齿尖的能量。

在一些可选实施方式中，如图2所示，所述顶面锯齿边缘13通过调整机构14与吸波屏基底1连接，所述调整机构14用于调整顶面锯齿边缘13的倾斜角度。例如在一个实施例中，所述调整机构14为调节螺母，所述吸波屏基底1的顶面在后侧向上延伸有挡板15，挡板15上设置有螺纹孔，顶面锯齿边缘13包括边缘主体131及边齿132，边缘主体131底部设置搭接在吸波屏基底1的顶面上，调节螺母的一端穿过挡板15的螺纹孔后，顶接在边缘主体131上。该实施例中，顶面锯齿边缘13的底部一般转动设置在吸波屏基底1的顶面上，例如在吸波屏基底1的顶面上设置截面为半圆形的安装槽，顶面锯齿边缘13的中间部分受调节螺母的推动，使得顶面锯齿边缘13绕其底面转动，从而实现顶面锯齿边缘13角度的调节。

在设计过程中，为避免测试系统有效作用区域内的建筑、树木、植被、凹凸不平的地面、人员及车辆等后向反射信号进入RCS测试系统接收机，对测试系统天线的波束宽度进行了优化设计，使得吸波屏两侧的信号强度较低，吸波屏两侧的绕射对测量结果的影响较小。而吸波屏顶面靠近RCS测试系统和被测目标间的直射信号，其绕射信号强，是吸波屏引入的绕射波导致的被测目标RCS测量结果重要的误差来源。因此，左侧面锯齿边缘11和右侧面锯齿边缘12未加装角度调整机构，顶面锯齿边缘13加装了角度调整机构，通过调整顶面锯齿边缘13调整机构14，使得顶面锯齿边缘主体44正面与来波方向呈45°，实现吸波屏顶面边缘绕射干扰的最佳抑制效果。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。