一种含HF/HCl蚀刻尾气FTrPSA分离与回收循环再利用方法

摘要

本发明公开了一种含HF/HCl蚀刻尾气FTrPSA分离与回收循环再利用方法，涉及半导体制程中蚀刻尾气的有效组分回收与循环再利用环保领域，其主要步骤为，含有HF/HCl干法蚀刻尾气先后经过预处理、氯硅烷/HCl喷淋吸收、中温变压吸附、HF精馏、多级蒸发/压缩/冷凝、HCl精制、氯硅烷中浅冷精馏与尾气吸收工序，从中获得纯度大于等于99.99％的HF与HCl产品气，并返回干法蚀刻制程中循环使用，其中，中温变压吸附为二段PSA、HF精馏为上下两段、HCl精制为两塔精馏。本发明实现了从含HF/HCl干法蚀刻尾气中分离回收HF与HCl，并返回蚀刻制程中循环使用，大幅度降低了蚀刻气体原料成本与尾气环保处理成本，解决了现有技术仅是达标排放而无法实现尾气综合利用，填补了该技术领域的空白。