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硅片边缘抛光装置、抛光鼓及抛光方法

摘要

本发明公开了一种硅片边缘抛光装置、抛光鼓及方法,所述硅片边缘抛光装置包括转动件、中部转动连接在所述转动件上的连杆、安装在所述连杆的一端并且能够与硅片的边缘接触的抛光垫、设置在所述连杆另一端的配重和用于监测所述抛光垫对硅片压力的压力传感器,所述连杆的旋转中心线与所述转动件的轴线垂直,当所述转动件旋转时,所述配重驱动连杆转动以使得所述抛光垫与所述硅片边缘接触。本发明提供的硅片边缘抛光装置、抛光鼓和方法能够在对硅片边缘抛光时避免硅片碎片和边缘品质恶化。

著录项

  • 公开/公告号CN112692719A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202011493457.2

  • 发明设计人 白宗权;

    申请日2020-12-16

  • 分类号B24B37/00(20120101);B24B37/005(20120101);B24B37/34(20120101);

  • 代理机构11513 北京远创理想知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郝杰

  • 地址 710032 陕西省西安市高新区西沣南路1888号

  • 入库时间 2023-06-19 10:44:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-12

    专利申请权的转移 IPC(主分类):B24B37/00 专利申请号:2020114934572 登记生效日:20220629 变更事项:申请人 变更前权利人:西安奕斯伟硅片技术有限公司 变更后权利人:西安奕斯伟材料科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:710032 陕西省西安市高新区西沣南路1888号 变更后权利人:710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室 变更事项:申请人 变更前权利人:西安奕斯伟材料技术有限公司 变更后权利人:西安奕斯伟硅片技术有限公司

    专利申请权、专利权的转移

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