公开/公告号CN112692719A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-23
原文格式PDF
申请/专利权人 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司;
申请/专利号CN202011493457.2
发明设计人 白宗权;
申请日2020-12-16
分类号B24B37/00(20120101);B24B37/005(20120101);B24B37/34(20120101);
代理机构11513 北京远创理想知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人郝杰
地址 710032 陕西省西安市高新区西沣南路1888号
入库时间 2023-06-19 10:44:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-07-12
专利申请权的转移 IPC(主分类):B24B37/00 专利申请号:2020114934572 登记生效日:20220629 变更事项:申请人 变更前权利人:西安奕斯伟硅片技术有限公司 变更后权利人:西安奕斯伟材料科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:710032 陕西省西安市高新区西沣南路1888号 变更后权利人:710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室 变更事项:申请人 变更前权利人:西安奕斯伟材料技术有限公司 变更后权利人:西安奕斯伟硅片技术有限公司
专利申请权、专利权的转移
机译: 用于抛光半导体盘边缘的抛光鼓连接到用于通过使用鼓主体,鼓支架,带密封件的鼓盖和鼓外套来固定抛光布的方式通过磨圆来修整边缘的装置。
机译: 基材保持装置,基材抽吸测定方法,基材抛光装置,基材抛光方法,从要抛光的硅片上表面上去除液体的方法,用于挤压晶片的弹性膜以维持原价,并持续抛光以维持成本不变
机译: 基材保持装置,基材吸附测定方法,基材抛光装置,基材抛光方法,从要抛光的硅片上表面去除液体的方法,用于挤压晶片的弹性膜以维持原价,并持续增加抛光强度,维持原价