一种金刚石涂层研磨材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种金刚石涂层研磨材料及其制备方法。它是以陶瓷为衬底的新型金刚石研磨材料，采用等离子体化学气相沉积法，包括以下步骤：烧结碳化硅或烧结氮化硅陶瓷片经过预处理、清洗烘干后，放入等离子体化学气相沉积装置中，通入不同浓度比0.1％‑10％的甲烷与氢气，在衬底温度700‑1100℃和气体压力5‑16KPa下，生长4‑12h，最终得到一定厚度的金刚石涂层。本发明通过改变预处理方式、衬底温度、甲烷浓度、气体压力和生长时间，制备出了附着良好，晶粒粒度不同的金刚石涂层，该金刚石涂层作为研磨材料有望用于电子级和光学级材料的精细研磨领域。