基于铬膜辅助的飞秒激光诱导超规整纳米光栅的方法

摘要

本发明提供一种基于铬膜辅助的飞秒激光诱导超规整纳米光栅的方法，包括如下步骤：S1、采用磁控溅射方法在基底上蒸镀厚度为25～100nm的铬薄膜；S2、搭建飞秒激光加工系统；S3、将铬薄膜固定在三维真空平移台上，并整体放置在真空单元内，飞秒激光脉冲在激光能量偏振调节单元衰减下将通量调节为20.9～24.5mJ/cm2，并经过聚焦透镜垂直聚焦到铬薄膜上，控制三维真空平移台带动铬薄膜以0.3～2μm/s的速度移动，在铬薄膜上加工出一行光栅周期为323～355nm、宽度为60μm、深度为237nm的深亚波长光栅阵列。本发明通过调节激光的加工参数、加工环境的压强和铬薄膜表面的处理区域，在铬薄膜表面加工出超规整、高精度的微纳结构。