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含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法

摘要

本发明公开了一种含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法。该磁流变抛光液包括40%~70%的基载液、20%~50%的羰基铁粉、1%~15%的纳米混合抛光粉、1%~5%的表面活性剂和0.1%~3%的pH调节剂,纳米混合抛光粉由平均粒径为10nm~100nm的纳米二氧化硅粉和平均粒径为50nm~800nm的纳米金刚石粉组成,二者的体积比为5~9∶4~1,制备方法包括将羰基铁粉、纳米混合抛光粉、基载液混合,然后加入表面活性剂和pH调节剂即得。本发明的磁流变抛光液可实现磁流变抛光高去除效率和高表面质量的兼容,流变性能好,稳定性强,能够实现光学元件的磁流变高效超光滑加工。

著录项

  • 公开/公告号CN112646496A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军国防科技大学;

    申请/专利号CN202011554452.6

  • 申请日2020-12-24

  • 分类号C09G1/02(20060101);

  • 代理机构43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙);

  • 代理人黄丽

  • 地址 410073 湖南省长沙市开福区砚瓦池正街47号

  • 入库时间 2023-06-19 10:36:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2020115544526 申请公布日:20210413

    发明专利申请公布后的驳回

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