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一种银面碳化硅二极管表面钝化加工工艺

摘要

本发明提供的一种银面碳化硅二极管表面钝化加工工艺,包括以下步骤:S10.在二极管的表面通过金属掩模版曝光刻蚀正面金属铝层;S20.在金属铝层上沉积一层等离子PE氮化硅层,通过钝化掩膜版曝光各向同性干法刻蚀等离子PE氮化硅层,形成器件终端表面钝化结构;S30.在器件终端表面钝化结构上蒸发一复合金属钛镍银层;S40.通过金属掩模版曝光刻蚀复合金属钛镍银层,形成器件银面正电极。与传统各项异性干法刻蚀相比保证了复合金属钛镍银TI‑NI‑AG与金属铝在器件终端处的粘附性,避免了金属钛镍银的脱落,同时此方案成本低。

著录项

  • 公开/公告号CN112652533A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市美浦森半导体有限公司;

    申请/专利号CN202011528189.3

  • 发明设计人 杨勇;张光亚;朱勇华;付国振;

    申请日2020-12-22

  • 分类号H01L21/329(20060101);H01L29/861(20060101);H01L29/16(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构44337 中山市科企联知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杨立铭

  • 地址 518000 广东省深圳市南山区招商街道水湾社区太子路22号金融中心大厦1601

  • 入库时间 2023-06-19 10:35:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-28

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/329 专利申请号:2020115281893 申请公布日:20210413

    发明专利申请公布后的驳回

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