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具量子点的画素基板及其制作方法

摘要

本发明公开了一种具量子点的画素基板及其制作方法,其中该具量子点的画素基板包含:一透明基板;一黑矩阵层,形成于该透明基板的表面,并定义数个像素空间;数个量子点胶层,个别形成于该数个像素空间中;及其中,该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成,且构成倒梯形或漏斗形结构,而使该些像素空间构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。据此可简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构。

著录项

  • 公开/公告号CN112634766A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 恒煦电子材料股份有限公司;

    申请/专利号CN201910904105.2

  • 发明设计人 许铭案;林文福;谢东宏;林佳慧;

    申请日2019-09-24

  • 分类号G09F9/33(20060101);H01L27/32(20060101);

  • 代理机构11228 北京汇泽知识产权代理有限公司;

  • 代理人周鹤

  • 地址 中国台湾苗栗县头份镇中华路442-1号

  • 入库时间 2023-06-19 10:32:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-19

    专利申请权的转移 IPC(主分类):G09F 9/33 专利申请号:2019109041052 登记生效日:20220805 变更事项:申请人 变更前权利人:恒煦电子材料股份有限公司 变更后权利人:恒煦电子材料国际有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:中国台湾苗栗县头份镇中华路442-1号 变更后权利人:中国香港租庇利街1号喜讯大厦第706单位

    专利申请权、专利权的转移

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