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一种二硫化钼纳米管的制备方法及二硫化钼纳米管

摘要

本发明公开了一种二硫化钼纳米管的制备方法,以阳极氧化铝为模板,采用原子层沉积技术在阳极氧化铝模板的纳米孔表面生长厚度可控的二硫化钼;用刻蚀液刻蚀掉阳极氧化铝,得到MoS2纳米管阵列。本发明通过选用不同的孔径和高度的AAO模板以及控制ALD的循环数可以精确地调控MoS2纳米管的直径、长度以及壁厚。该方法解决了二硫化钼纳米管管径以及壁厚不可控的问题,制备的二硫化钼纳米管具有良好的可重复性以及取向一致性,可用于催化以及半导体等领域,适合大规模工业化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN112607778A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东南大学;

    申请/专利号CN202011621439.8

  • 发明设计人 刘磊;焦松龙;吕俊;孔孟书;

    申请日2020-12-31

  • 分类号C01G39/06(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11467 北京德崇智捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王斌

  • 地址 211100 江苏省南京市江宁区东南大学路2号

  • 入库时间 2023-06-19 10:30:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C01G39/06 专利申请号:2020116214398 申请公布日:20210406

    发明专利申请公布后的驳回

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