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补偿室和工艺效应以改善修整工艺的关键尺寸变化

摘要

一种控制器包含存储器,其存储将累积值与相应的调整系数相关联的数据。所述累积值对应于在处理室内的表面上材料的累积,并且所述相应的调整系数对应于对提供至所述处理室的射频(RF)功率的控制参数的调整。累积计算模块被设置成计算第一累积值,所述第一累积值指出所述材料的累积量。RF功率控制模块被设置成:接收所述第一累积值;接收设定值功率和所述蚀刻步骤的持续时间中的至少一者;从所述存储器提取所存储的所述数据;基于所述第一累积值、所述设定值功率和所述蚀刻步骤的所述持续时间中的所述至少一者、以及所存储的所述数据来调整所述控制参数;以及根据所调整的所述控制参数来控制被提供至所述处理室的所述RF功率。

著录项

  • 公开/公告号CN112534561A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗姆研究公司;

    申请/专利号CN201980051428.X

  • 申请日2019-07-31

  • 分类号H01L21/67(20060101);H01L21/3065(20060101);H01L21/311(20060101);H01L21/3213(20060101);H01L21/027(20060101);H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31263 上海胜康律师事务所;

  • 代理人樊英如;邱晓敏

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 10:18:07

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