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一种采用气固并流下行床反应器的多晶硅冷氢化方法

摘要

本发明公开了采用气固并流下行床反应器的多晶硅冷氢化方法,步骤:将硅粉和固体催化剂与预热的H2和经预热汽化的SiCl4气体由所述反应器的上部加入,反应,得到含有SiHCl3的气固混合物由所述反应器底部采出并进入气固分离器进行分离;分别得到携带杂质的SiHCl3气体送往下游分离精制工段,分离得到的硅粉与固体催化剂混合物重新从所述反应器的上部通入。本发明消除了上行流化床反应器的气固环核结构,反应充分均匀,效率高。硅粉和催化剂在反应时被带出较少,循环利用,硅粉的利用率较高,大大的减少了渣浆的产生量。本发明SiHCl3的单程收率提高到30%以上。具有操作简便、高效节能和经济环保的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN112374502A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN202011278241.4

  • 申请日2020-11-16

  • 分类号C01B33/107(20060101);

  • 代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人陆艺

  • 地址 300350 天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区

  • 入库时间 2023-06-19 09:55:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-02-21

    授权

    发明专利权授予

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