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公开/公告号CN112334800A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-02-05
原文格式PDF
申请/专利权人 日东电工株式会社;
申请/专利号CN201980043087.1
发明设计人 大学纪二;山崎达也;冈本昌之;
申请日2019-08-02
分类号G02B5/30(20060101);B32B7/023(20060101);B32B27/30(20060101);C08F220/28(20060101);G02F1/1335(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人王利波
地址 日本大阪府
入库时间 2023-06-19 09:47:53
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-06-23
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G02B 5/30 专利申请号:2019800430871 申请公布日:20210205
发明专利申请公布后的视为撤回
机译: 低折射层,使用相同防偏膜的偏振膜和图像显示装置的防反射膜的涂层组成
机译: 包含氟化合物,使用相同防偏膜和图像显示装置的防反射膜的低折射率层的涂层组合物,包括所述防反射膜
机译: 消偏膜,其制造方法,光学膜和液晶显示装置
机译:通过具有动态反向传播效应补偿的保偏非线性光学环形镜实现超快速5位光学A / D转换
机译:由聚(偏二氟乙烯)(PVDF)/氧化石墨烯(RGO)纳米复合膜(RGO)纳米复合膜表现出令人印象深刻的非线性光学响应
机译:偏金属氧化物半导体场效应晶体管结构的表面显微镜:光热和电反射图像
机译:鞘镜椭偏仪作为潜在的在线光学计量学工具,用于低K介电膜的相对孔隙率测量
机译:X射线光电子光谱法表征Zn2 +掺杂聚(偏二氟化胺)膜的膜
机译:反射偏钼碳化物膜作为饱和吸收剂的非线性光学响应
机译:用于高磁场稀释冰箱中光学实验的保偏共聚焦显微镜
机译:光学椭偏法研究光学超导学的双向各向异性