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一种低温下获得的晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层及其制备方法

摘要

本发明公开了一种低温下获得的晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层及其制备方法,属于涂层技术领域,该涂层使用高能脉冲磁控溅射沉积获得,涂层包括一种fcc‑(Al,Cr)2O3相(200)晶面;该涂层的制备方法为:基体前处理和加热;使用等离子清洗基体;用高能脉冲磁控溅射沉积晶态立方三氧化二铝铬稳定结构涂层。本发明涂层制备温度低,硬度高,择优取向强,化学结构稳定。

著录项

  • 公开/公告号CN112281115A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 贵州大学;

    申请/专利号CN202011193963.X

  • 发明设计人 杜昊;施杰;戴厚富;张泽;

    申请日2020-10-30

  • 分类号C23C14/08(20060101);C23C14/35(20060101);

  • 代理机构52100 贵阳中新专利商标事务所;

  • 代理人胡绪东

  • 地址 550025 贵州省贵阳市花溪区贵州大学花溪北校区科技处

  • 入库时间 2023-06-19 09:43:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-04-07

    授权

    发明专利权授予

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