一种用于氧化膜的生产系统

摘要

本发明公开了一种用于氧化膜的生产系统，涉及氧化膜生产装置技术领域，针对现有的氧化膜密度低的问题，现提出如下方案，其包括反应箱，所述反应箱内固定连接有分隔板，所述分隔板的上侧固定连接有透析板，所述透析板的一侧设置有多个与反应箱转动连接的转向辊，所述转向辊的外壁转动连接有原料板，所述原料板的外侧设置有与反应箱固定连接的接触装置和电击装置，所述反应箱的上侧套接有放置盖，本发明结构简单，使用方便，可以经过初期的氧化和后期电弧的强化，可以保证氧化膜的形成和厚度，同时经过电弧的刺激，可以补充可能没有被氧化的位置，进而保证氧化膜的致密性，进而保证整个氧化膜的质量，提升产品的品质。

说明书

技术领域

本发明涉及氧化膜生产装置技术领域，尤其涉及一种用于氧化膜的生产系统。

背景技术

氧化是一种狭义上指代氧气与金属产生反应，形成一种氧化物质，其中一些在金属表面的金属粒子与氧气发生反应，形成氧化膜，其中部分金属可以形成致密的氧化膜，防止内部的金属元素继续氧化，进而达到保护的作用。

氧化膜中存在两种类型的应力，氧化膜恒温生长时产生的生长应力和温度变化时由于金属与氧化物的热膨胀系数不同而产生的热应力，现有的装置可以经过温度变化，对内应力进行一定的去除，同时对于氧化膜的厚度仍然没有很好的保障。

发明内容

本发明提出的一种用于氧化膜的生产系统，解决了氧化膜密度低的问题。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种用于氧化膜的生产系统，包括反应箱，所述反应箱内固定连接有分隔板，所述分隔板的上侧固定连接有透析板，所述透析板的一侧设置有多个与反应箱转动连接的转向辊，所述转向辊的外壁转动连接有原料板，所述原料板的外侧设置有与反应箱固定连接的接触装置和电击装置，所述反应箱的上侧套接有放置盖，所述放置盖的上侧固定连接有第一收集罩和第二收集罩，所述第一收集罩和第二收集罩的一侧均连接有与反应箱相连接的能源装置，所述能源装置的一侧固定连接有出气管，且出气管的另一端固定连接有的燃烧管，所述燃烧管的上侧固定连接有与分隔板固定连接的回水管。

优选的，所述接触装置包括与的反应箱固定连接的固定箱，所述固定箱的一侧转动连接有的滚动轴，所述滚动轴的外壁固定套接有接触辊，所述滚动轴的外壁连接有电刷。

优选的，所述电击装置包括与反应箱固定连接的电击箱，所述电击箱的一侧固定连接有多个针头，所述针头内设置有与电击箱相连通的通气孔，所述电击箱的一侧连接有与能源装置相连通的回流管。

优选的，所述能源装置包括与反应箱固定连接的防护箱，所述防护箱的底部固定连接有两个储气罐，两个所述储气罐的上侧分别连接有干净管，且干净管的上侧固定连接有与反应箱固定连接的过滤箱，所述过滤箱的上侧连接有净化管，且净化管的另一端连接有与反应箱固定连接的真空泵，所述真空泵的输入端连接有连接管，且连接管的另一端固定连接有回吸管，两个所述回吸管分别与第一收集罩和第二收集罩相连接，两个所述储气罐均分别与两个所述出气管固定连接。

优选的，其中一个所述储气罐与回流管相连接，所述干净管和回流管上均连接有单向阀。

优选的，所述回水管上连接有阀门，所述放置盖上设置有多个通孔，所述分隔板的下侧固定连接有多个与反应箱固定连接的排放管。

本发明的有益效果：

1：通过各个装置之间的相互配合，可以经过初期的氧化和后期电弧的强化，可以保证氧化膜的形成和厚度，同时经过电弧的刺激，可以补充可能没有被氧化的位置，进而保证氧化膜的致密性，进而保证整个氧化膜的质量，提升产品的品质。

2：通过各个装置的相互配合，可以对产生的多余的气体进行回收和利用，提高温度增加反应速率，保证氧化的进行，同时节约一定的能量，降低成本。

附图说明

图1为本发明提出的一种用于氧化膜的生产系统的主视剖视示意图；

图2为本发明提出的一种用于氧化膜的生产系统的左视剖视示意图；

图3为本发明提出的一种用于氧化膜的生产系统的俯视剖视示意图；

图4为本发明提出的一种用于氧化膜的生产系统的接触装置主视剖视示意图；

图5为本发明提出的一种用于氧化膜的生产系统的电击装置主视剖视示意图。

图中标号：1、反应箱；2、防护箱；3、储气罐；4、回流管；5、过滤箱；6、净化管；7、真空泵；8、连接管；9、回吸管；10、第一收集罩；11、原料板；12、放置盖；13、转向辊；14、接触装置；15、分隔板；16、回水管；17、出气管；18、燃烧管；19、干净管；20、排放管；21、第二收集罩；22、电击装置；23、透析板；141、固定箱；142、接触辊；143、滚动轴；221、电击箱；222、针头。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-5，一种用于氧化膜的生产系统，包括反应箱1，反应箱1内固定连接有分隔板15，分隔板15的上侧固定连接有透析板23，透析板23的一侧设置有多个与反应箱1转动连接的转向辊13，转向辊13的外壁转动连接有原料板11，原料板11的外侧设置有与反应箱1固定连接的接触装置14和电击装置22，反应箱1的上侧套接有放置盖12，放置盖12的上侧固定连接有第一收集罩10和第二收集罩21，第一收集罩10和第二收集罩21的一侧均连接有与反应箱1相连接的能源装置，能源装置的一侧固定连接有出气管17，且出气管17的另一端固定连接有的燃烧管18，燃烧管18的上侧固定连接有与分隔板15固定连接的回水管16，在进行工作中，首先将原料板11穿过放置盖12和转向辊13，然后从第一收集罩10中离开，最后利用现有绕卷装置，进行绕卷，以保证原料板的运输，开始氧化时，在反应箱1中透析板23的一侧空间，连接上电源负极，同时将电源正极连接到接触装置14和电击装置22上，利用高压电能，进行强制的氧化还原反应，在工作过程中，接触装置14进行初步的氧化，电击装置22，同时产生的多余的氧气和氢气，经过能源装置进行回收，当回收达到一定限度后，从出气管17中排出，然后在燃烧管18中燃烧，形成水后，重新进入到反应箱1中，增加反应箱1内的温度，进而加快反应速度，提高工作效率。

接触装置14包括与的反应箱1固定连接的固定箱141，固定箱141的一侧转动连接有的滚动轴143，滚动轴143的外壁固定套接有接触辊142，滚动轴143的外壁连接有电刷，在原料板11经过两个接触装置14之间时，接触到接触辊142，实现电流的导通，阳极电流使得溶液中的氧离子得到电子，结合成氧气，进而在液体通电的环境下与金属原子进行反应，进行氧化，有与接触辊142以线接触，氧化层平稳，进而形成一定厚度和密度的氧化层。

电击装置22包括与反应箱1固定连接的电击箱221，电击箱221的一侧固定连接有多个针头222，针头222内设置有与电击箱221相连通的通气孔，电击箱221的一侧连接有与能源装置相连通的回流管4，其中针头222同样与阳极进行连接，但是中间连接有上变频器，实现电流的高频的通断，在工作过程中，随着原料板11的移动和针头222顶部小面积的放点，形成电弧，可以对金属表面进行击穿，同时对于可能没有氧化的位置进行补充，保证氧化膜的致密性，同时保证一定的厚度，在此同时，通过回流管4将阳极多余的氧气通入到电击箱221中，在经过通气孔排出，配合电击的作用，保证氧元素的供给。

能源装置包括与反应箱1固定连接的防护箱2，防护箱2的底部固定连接有两个储气罐3，两个储气罐3的上侧分别连接有干净管19，且干净管19的上侧固定连接有与反应箱1固定连接的过滤箱5，过滤箱5的上侧连接有净化管6，且净化管6的另一端连接有与反应箱1固定连接的真空泵7，真空泵7的输入端连接有连接管8，且连接管8的另一端固定连接有回吸管9，两个回吸管9分别与第一收集罩10和第二收集罩21相连接，两个储气罐3均分别与两个出气管17固定连接，在工作过程中，真空泵7工作，将反应箱1中多余的氧气和氢气从反应箱1中吸出，然后经过净化管6进入到过滤箱5中，进行过滤，除去水汽或者其他杂质，然后经过干净管19进入到储气罐3中进行存储，保证后续的工作。

其中一个储气罐3与回流管4相连接，干净管19和回流管4上均连接有单向阀，与回流管4相连接的储气罐3存储的为氧气，保证后续对电击装置22进行供氧。

回水管16上连接有阀门，放置盖12上设置有多个通孔，分隔板15的下侧固定连接有多个与反应箱1固定连接的排放管20，通孔保证气体的流通，排放管20进行反应后的污水的的排放。

工作原理：在进行工作中，首先将原料板11穿过放置盖12和转向辊13，然后从第一收集罩10中离开，最后利用现有绕卷装置，进行绕卷，以保证原料板的运输，开始氧化时，在反应箱1中透析板23的一侧空间，连接上电源负极，同时将电源正极连接到接触装置14和电击装置22上，利用高压电能，进行强制的氧化还原反应，在工作过程中，接触装置14进行初步的氧化，即原料板11接触到接触辊142，实现电流的导通，阳极电流使得溶液中的氧离子得到电子，结合成氧气，进而在液体通电的环境下与金属原子进行反应，进行氧化，有与接触辊142以线接触，氧化层平稳，进而形成一定厚度和密度的氧化层，随着原料板11的移动，原料板11与针头222顶部小面积的放点，形成电弧，可以对金属表面进行击穿，同时对于可能没有氧化的位置进行补充，保证氧化膜的致密性，同时保证一定的厚度，在此同时，通过回流管4将阳极多余的氧气通入到电击箱221中，在经过通气孔排出，配合电击的作用，保证氧元素的供给，在工作过程中，同时产生的多余的氧气和氢气，经过能源装置进行回收，当回收达到一定限度后，从出气管17中排出，然后在燃烧管18中燃烧，形成水后，重新进入到反应箱1中，增加反应箱1内的温度，进而加快反应速度，提高工作效率。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。