公开/公告号CN112166383A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-01
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201980035788.0
发明设计人 D·H·C·范班宁;J·G·戈森;
申请日2019-05-22
分类号G03F7/20(20060101);H01J37/317(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人胡良均
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-06-19 09:23:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-14
授权
发明专利权授予
机译: 带电粒子束绘制设备,用于创建带电粒子束绘制数据的方法和程序,带电粒子束的拍摄数量计算程序,带电粒子束绘制设备的带电粒子束制造设备的近距离校正程序,带电粒子束绘制设备,雾状带电粒子束程序
机译: 粒子束辐照系统,粒子束控制信息生成设备,粒子束辐照控制设备,粒子束辐照设备,粒子束辐照设备的控制方法和程序
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