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一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜及其制备方法与应用

摘要

本发明涉及一种具有光催化自清洁性能的聚偏氟乙烯混合基质膜及其制备方法与应用,制备方法包括:将SnO2‑Cu2O纳米复合材料与聚偏氟乙烯混合并配制得到铸膜液,之后通过非溶剂致相分离法制得聚偏氟乙烯混合基质膜;该混合基质膜可用于提高催化膜反应器装置的抗有机污染物性能。与现有技术相比,本发明将SnO2‑Cu2O以添加剂的形式加入聚偏氟乙烯铸膜液,通过引入无机纳米粒子共混法和NIPS法改性PVDF膜,不仅使得复合膜机械强度提高,同时亲水性也得到大幅增强,并具有更好的抗污染能力和截留性能。

著录项

  • 公开/公告号CN112121648A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海应用技术大学;

    申请/专利号CN202010962237.3

  • 申请日2020-09-14

  • 分类号B01D71/34(20060101);B01D69/02(20060101);B01D67/00(20060101);B01D65/02(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人顾艳哲

  • 地址 201418 上海市奉贤区海泉路100号

  • 入库时间 2023-06-19 09:18:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B01D71/34 专利申请号:2020109622373 申请公布日:20201225

    发明专利申请公布后的驳回

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