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用于去除电镀系统内的污染物的系统及方法

摘要

根据本技术的电镀系统可包括双浴槽电镀腔室,此双浴槽电镀腔室包括分隔器,配置成用以提供第一浴槽及第二浴槽之间的流体分离,此第一浴槽配置成用以在作业期间保持阴极电解液,此第二浴槽配置成用以在作业期间保持阳极电解液。此系统可包括阴极电解液槽,与此浴槽电镀腔室的此第一浴槽流体地耦接。此系统也可包括污染物提取系统,配置成用以去除此阴极电解液的污染物离子。

著录项

  • 公开/公告号CN112135932A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201980031370.2

  • 申请日2019-05-09

  • 分类号C25D21/18(20060101);C25D5/18(20060101);C25D21/06(20060101);C25D17/00(20060101);C25D17/02(20060101);C25D3/30(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 09:18:22

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