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能量场三维打印系统

摘要

用于使用能量场投影系统打印三维对象的装置。在操作中,根据四维(4D)能量场函数将能量投射到打印介质中,以使所述打印介质暴露于阈值能量强度水平,所述阈值能量强度水平使得所述打印介质硬化为三维对象的形状。

著录项

  • 公开/公告号CN112105976A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 光场实验室公司;

    申请/专利号CN201980018332.3

  • 发明设计人 J·S·卡拉夫;

    申请日2019-01-13

  • 分类号G02B6/10(20060101);G02B6/13(20060101);B29C64/124(20060101);B29C64/129(20060101);B29C64/135(20060101);B29C64/30(20060101);B29C64/386(20060101);B29C64/393(20060101);B33Y30/00(20060101);

  • 代理机构31327 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴凡

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 09:13:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-09

    授权

    发明专利权授予

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